Exposition time analysis of AlGaN/GaN HEMT fabrication by electron beam lithography
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
eng
Czasopismo
Optica Applicata
ISSN
0078-5466
EISSN
Wydawca
DOI
URL
Rok publikacji
2019
Numer zeszytu
nr 1
Strony od-do
161-166
Numer tomu
vol. 49
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Słowa kluczowe
pol
litografia elektronowa
wytwarzanie przyrządów
redukcja czasu ekspozycji
Open access
Tryb otwartego dostępu
Otwarte czasopismo
Wersja tekstu w otwartym dostępie
Wersja opublikowana
Licencja otwartego dostępu
Creative Commons — Uznanie autorstwa
Czas opublikowania w otwartym dostępie
Razem z publikacją
Inne
System-identifier
000220626
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych