Analysis of the properties of functional titanium dioxide thin films deposited by pulsed DC magnetron sputtering with various O2:Ar ratios
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
eng
Czasopismo
Optical Materials (Amsterdam) (35pkt w roku publikacji)
ISSN
0925-3467
EISSN
Wydawca
DOI
URL
Rok publikacji
2017
Numer zeszytu
Strony od-do
96-104
Numer tomu
vol. 69
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Autorzy
(liczba autorów: 1)
Słowa kluczowe
pol
TiO2
nanokrystaliczne cienkie warstwy
rozpylanie magnetronowe
mikrostruktura
właściwości powierzchni
właściwości optyczne
twardość
Inne
System-identifier
000209106