Deposition and optimization of thin lead layers for superconducting accelerator photocathodes
PBN-AR
Instytucja
Instytut Optoelektroniki (Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
PHYSICA SCRIPTA
ISSN
0031-8949
EISSN
1402-4896
Wydawca
IOP PUBLISHING LTD
DOI
URL
Rok publikacji
2014
Numer zeszytu
Strony od-do
014071
Numer tomu
T161
Liczba arkuszy
Słowa kluczowe
en
Deposition
Field emission cathodes
Lead
Niobium
Photocathodes
Recrystallization (metallurgy)
Superconductivity
Arc deposition
Argon ion beam
Electron injectors
Photoinjector
Plasma injectors
Superconducting accelerator
Thin layers
Ultra-high
Plasmas
Streszczenia
Język
en
Treść
A combination of a ultra high vacuum arc deposition system and a recrystallization method was used to optimize the smoothness and thickness of thin-layer lead cathodes for superconducting niobium electron injectors. A non-filtered arc system was chosen to deposit Pb films on niobium. The films then underwent melting and recrystallization by treating them with pulsed argon ion beams in a rod plasma injector. © 2014 The Royal Swedish Academy of Sciences.
Cechy publikacji
ORIGINAL_ARTICLE
Inne
System-identifier
588209
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych